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标志设计面型与线型造型中特种处理

时间:2022-03-20人气:作者: 佚名

标志设计面型与线型造型中特种处理

  为了使设计的标志形象更加具有艺术性,我们有时采用一些特殊的手法。这些手法虽然表现的不是真实的客观现象,但它可让人在视觉上感到真实、丰富,有时还会产生有趣或奇特之感。那标志设计面型与线型造型中有什么特种处理呢?

   

  一、面型造型中的特殊处理

  

  在以面为基本造型要素设计的标志中,面与面之间的位置关系一般来说有“分离、相接、重叠”三种情况。下面我们分析与研究当面与面在设计中出现“重叠”现象时的特种处理方法。

  

  1.重叠形合并:设想构成标志的重叠形是同色质材料组成的,在变现时我们就让两形合并。

  

  2.重叠形分离:设想重叠形之间有一定的前后距离,在变现时用空白边线让两形前后分离,也就是出现后面形的局部被前面的形遮挡了的感觉。

  

  3.重叠处透明:设想构成标志图形的材料是透明的,在表现时让重叠部分成为空白,视觉上产生透明感。

  

  

  二、线型造型中的特殊处理

  

  在标志设计中,有时只用造型要素之一的“面”构成图形,但有时为了某种造型的需要,也可只用“线”来造型。下面分析与研究用线造型时候,对线条重叠处的处理方式。

  

  1.重叠处合并;

  

  2.重叠处分离;

  

  2.重叠处透明;

  

  4.重叠处编织。

  

  三、线型面化表现的特殊处理

  

  有时为了标志图形整体形象更加简略,我们有意要用省略手法。如左下图标志图形是用(中间是透空的)两个框形组合而成的。但我们为了追求简略,在中下图和右下图中,有意省略了部分线条。处理后的结果,框形在视觉上视乎不是框形结构,而是充实的面形状结构(也就是中空部分的形变成是实形)